东芝推出两款80V N沟道功率MOSFET场效应管TPH2R408QM和TPN19008QM

发布时间:2020-04-01 11:04 分类:公司新闻 浏览次数:2394次

东芝基于其U-MOSX-H工艺推出了两个80V N沟道功率MOSFET。TPH2R408QM和TPN19008QM,适用于低损耗要求的电源应用,包括数据中心和通信基站以及电机驱动设备中的AC-DC和DC-DC转换。与早期工艺中的相应80V产品(例如U-MOSVIII-H)相比,TPH2R408QM和TPN19008QM的漏源导通电阻(RDS(ON))均降低了约40%。


TPN19008QM的RDS(ON)值为19mΩ(MAX),而TPH2R408QM值为2.43mΩ。


该公司表示,已经优化了器件结构,将RDS(ON)和栅极电荷特性之间的权衡提高了15%,并将RDS(ON)和输出电荷之间的权衡了31%。


MOSFET采用表面贴装封装,额定漏源电压为80V。它们可在高达175ºC的通道温度下工作。TPN19008QM的额定漏极电流为34A,并采用3.3×3.3mm TSON封装,而TPH2R408QM的额定电流为120A,并采用5x6mm SOP封装。



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